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计算研究用于氮还原反应的过渡金属原子修饰C8N8单层结构
《ChemPhysChem》:Computational Investigation of Transition Metal Atom-Decorated C8N8 Monolayers for Nitrogen Reduction Reaction
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年09月30日 来源:ChemPhysChem 2.2
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氮还原反应(NRR)催化剂设计及性能研究基于密度泛函理论(DFT),过渡金属单原子修饰C8N8单层材料经筛选后,OsC8N8表现出最优催化性能,其反应能垒低至0.21 eV,电子结构分析表明Os有效削弱N-N键促进活化。
电催化氮还原反应(NRR)被认为是实现可持续氨合成的有前景的方法。开发高活性和选择性的催化剂仍然是这项技术的关键挑战。C8N8由于其独特的结构和高孔隙率,成为固定单原子的优秀载体。在这项工作中,通过密度泛函理论计算全面研究了过渡金属单原子修饰的C8N8单层在氮还原反应中的催化性能。在多种组合中,筛选出了24种候选材料,这些材料预计具有稳定性,表现为负结合能(Eb?0)和负形成能(Ef?0)。其中,TiC8N8、MoC8N8和OsC8N8的反应能垒分别为0.67、0.50和0.21 eV,表明它们具有潜在的催化活性。特别是OsC8N8在氮还原反应中的选择性相对较好。电子结构分析显示,OsC8N8有效地削弱了N-N键,从而促进了N2的活化。这项工作为氮还原电催化材料的设计提供了宝贵的见解,并为实验合成提供了可行的候选材料。
作者声明没有利益冲突。
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