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基于场发射电流的双断口真空断路器异步关合预击穿特性研究
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年09月06日 来源:Vacuum 3.9
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本文通过实验研究了双断口真空断路器(VCB)在异步关合策略下的预击穿行为,系统测量了场发射电流(Ipre)、预击穿间隙(dpre)和浮动端电压(Upre)的统计特性,发现异步时序可调控电容电压分布,抑制电流波动并提升绝缘稳定性,为双断口VCB的相位控制关合策略提供了理论支撑。
Highlight
双断口VCB中场发射电流与预击穿间隙的累积概率分布及离散性
在真空灭弧室(VI)中,预击穿场发射电流(Ipre)指电极间在强电场下宏观放电通道形成前的弱电子发射电流。实验表明,Ipre的统计分布符合三参数Weibull分布,该分布能有效表征预击穿阶段发射电流的随机性与离散性,对理解绝缘失效机制具有重要意义。
双断口VCB中预击穿场发射电流与间隙距离的变化趋势
通过六种测试配置的离散分布图(图3-4)分析发现:方形标记代表场发射电流(I50)和预击穿间隙(d50)的中位值,垂直线表示其离散度(σi和σd)。总体而言,随着施加的直流电压升高,Ipre与dpre呈现显著负相关性,且同步关合时线性耦合最强。
CONCLUSIONS
本研究揭示了异步关合时序对双断口VCB预击穿行为的调控机制:高压侧提前关合会增大低压侧分压比,导致dpre中位值显著增加(达1.40 mm)而Ipre大幅降低(最低0.90 mA),同时两者离散度减小。Upre与Ipre的弱相关性表明预击穿行为主要受物理间隙距离支配,浮动电位变化影响有限。
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