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基于应变硅/锗金属环的催化芳香C-H硼化反应:高效构建双功能有机硅/锗化合物
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年09月02日 来源:Nature Communications 15.7
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本研究针对传统合成邻位双功能有机硅/锗化合物步骤繁琐的难题,开发了一种高效的Ir催化C-H硼化新策略。通过设计Si/Ge导向基团抑制副反应,成功构建了苯并四元环金属中间体,一步实现芳香C-H键选择性活化与硼化。该工作发表在《Nature Communications》,为复杂有机分子合成提供了原子经济性新路径。
在有机合成领域,同时含有硅/锗和硼官能团的芳香化合物因其独特的反应活性备受关注,这类双功能分子在光电材料、药物合成中具有重要应用价值。然而传统合成方法往往需要多步反应,特别是构建邻位取代结构时面临巨大挑战。更棘手的是,硅、锗等类金属元素作为导向基团时,容易引发过渡金属催化的σ键复分解等副反应,严重制约了这类化合物的高效制备。南京大学化学化工学院Qianwei Chen、Minyan Wang、Yue Zhao和Zhuangzhi Shi团队在《Nature Communications》发表的研究,通过创新性地利用应变硅/锗金属环中间体,实现了催化级联的C-H硼化反应,为这一难题提供了优雅解决方案。
研究团队采用[Ir(cod)OMe]2催化剂与联吡啶类配体体系,结合KOAc添加剂,通过密度泛函理论(DFT)计算指导反应优化。关键实验技术包括:氘标记实验验证反应机理、X射线晶体学确定产物结构、气相色谱质谱(GC-MS)监测反应进程,以及系统考察不同金属催化剂、配体结构和反应条件对选择性的影响。
【条件优化】通过系统筛选发现,[Ir(cod)OMe]2/L4配体组合在KOAc存在下,以THF为溶剂时效果最佳,能获得75%收率的硼化产物2a。氘标记实验表明反应经历不可逆的Si-H键氧化加成过程,动力学同位素效应(KIE)值显示Si-H和C-H键断裂均非决速步。
【底物适用范围】该方法适用于三芳基硅烷(1a-1h)和双烷基芳基硅烷(1i-1z),萘基底物1h表现出优异的C3位点选择性。拓展至锗化合物时,需使用三联吡啶配体L1抑制σ键复分解,三芳基锗烷3a-3k能以中等收率获得目标产物4b-4k。
【产物衍生化】获得的邻位硼化产物可进一步转化为多种功能分子:通过Suzuki偶联构建联芳烃6,经脱氢环化得到硅杂环戊二烯7;利用CH2I2/Et2Zn甲基化后,可选择性氧化为酚10或碘化为11;Rh催化下与炔烃环化可构建苯并硅杂环13。
【机理研究】DFT计算揭示了完整的催化循环:Ir催化剂优先与Si-H键发生氧化加成(能垒13.6 kcal/mol),通过碱辅助的亲电取代(BIES)机制形成四元硅金属环INT4A(能垒18.1 kcal/mol),远低于直接氧化加成路径(33.7 kcal/mol)。后续HBpin的氧化加成和转金属化步骤中,硅酸钾盐的形成是决速步(能垒34.0 kcal/mol)。
这项研究突破了传统导向基团的限制,首次实现了催化条件下苯并四元硅/锗金属环的构建,为复杂有机分子合成提供了新策略。通过巧妙的底物设计和条件控制,有效抑制了类金属元素常见的副反应,拓展了C-H活化化学的边界。该方法产出的双功能砌块可便捷转化为各类重要结构单元,在材料科学和药物研发领域具有广阔应用前景。理论计算与实验结果的相互印证,也为理解应变金属环的形成机制提供了新视角。
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