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构建高价位Ge空位实现p型Cu2GeSe3高热电功率因子的突破
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年08月03日 来源:Journal of Alloys and Compounds 6.3
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本文通过构建高价位Ge空位策略,成功突破I2-IV-VI3铜基类金刚石化合物(Cu2GeSe3)的载流子浓度瓶颈,实现1021 cm-3级金属导电性,并结合碘掺杂优化获得1.31 mW m-1 K-2的创纪录功率因子(PF)及0.68的峰值zT值,为热电材料性能提升提供新思路。
Highlight
本研究创新性地在Cu2GeSe3中构建高价位Ge空位,意外发现该材料可天然容纳大量Ge空位(经电镜验证),使载流子浓度飙升至~1021 cm-3,电导率呈现金属特性。通过硒位点碘掺杂进一步调控载流子浓度,最终在323-773 K温区实现1.0 mW m-1 K-2的平均功率因子(PF),创I2-IV-VI3家族最高纪录。
Results and discussion
XRD分析显示(图1a-b),Cu2Ge1-xSe3样品结晶度高,正交相为主相。当x=0.2时出现杂质峰,表明Ge空位极限浓度约15%。电输运测试证实,Ge空位使样品呈现类金属导电行为,载流子迁移率保持良好。碘掺杂后,Cu2Ge0.9Se2.89I0.11的PF峰值达1.31 mW m-1 K-2(773 K),较本征样品提升470%。
Conclusion
通过Ge空位与碘掺杂协同策略,成功突破Cu2GeSe3热电性能瓶颈。该工作为I2-IV-VI3化合物提供"高价空位调控载流子"的普适性优化方案。
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