miR156-SPL模块介导遮荫抑制杨树木材形成的关键机制:细胞分裂素通路的调控作用

【字体: 时间:2025年07月14日 来源:Cell Reports 7.5

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  在森林高密度种植中,遮荫显著抑制木材形成,但其分子机制尚不明确。西南大学罗克明团队发现,遮荫(低红光/远红光比例)通过上调miR156表达,抑制其靶基因SPL16/SPL23,进而降低细胞分裂素(CK)生物合成基因IPT5a/IPT5b和LOG1b的表达,最终抑制杨树形成层活动和木质部发育。该研究首次揭示了miR156-SPL16/23-IPT5/LOG1-CK信号通路在遮荫响应中的核心作用,为选育耐荫树种提供了关键分子靶标。

  

论文解读

在茂密的森林和人工林中,树木常因邻株遮荫导致光照不足,木材产量显著下降。这种现象背后存在一个关键矛盾:遮荫虽促进树木增高以竞争光照,却抑制了形成层细胞分裂和木质部发育,但其中的分子调控机制长期未知。西南大学罗克明团队通过整合田间密度试验与分子生物学手段,首次揭示了微小RNA156(miR156)及其靶基因SPL16/SPL23通过细胞分裂素(Cytokinin, CK)通路调控遮荫下木材形成的新机制,相关成果发表于《Cell Reports》。

研究人员采用红光/远红光比例(R/FR)模拟遮荫条件,结合高密度种植实验,通过CRISPR基因编辑构建多种遗传材料,利用组织特异性表达系统、激素定量检测、原位杂交及分子互作验证技术,系统解析了遮荫抑制木材形成的信号通路。

研究结果

1. 遮荫抑制杨树形成层活动与木材形成

田间高密度种植(R/FR=0.62)和人工遮荫处理(R/FR=0.46-0.77)均显著抑制杨树形成层细胞分裂和木质部发育。在6WL+3FR条件下,形成层细胞层数减少20.2%,木质部细胞减少36.6%(图1)。遮荫虽促进茎秆伸长(增高16.8%),但径向生长受阻,表明资源向高度生长倾斜。

2. miR156-SPL16/23模块响应遮荫信号

与草本植物相反,遮荫显著提升杨树茎韧皮部miR156水平(增幅2.1倍),并抑制其靶基因SPL16和SPL23表达(下降60%)。原位杂交显示SPL16/23在形成层和韧皮部射线原始细胞富集(图2)。过表达miR156的转基因株系形成层活动受损,而韧皮部特异性表达SPL16(CLE41bpro:SPL16△)可缓解遮荫抑制效应。

3. 细胞分裂素介导遮荫抑制效应

遮荫使茎中活性CK(iP型和tZ型)含量下降45%,同时下调CK合成基因IPT5a、IPT5b和LOG1b。IPT5a/IPT5b双突变体形成层细胞减少31%,而韧皮部过表达IPT5b或LOG1b的株系维持高CK水平,显著抵抗遮荫抑制(细胞层数仅减少11.6% vs WT的28.5%)(图5)。

4. SPL16/23直接激活CK合成通路

SPL16/23蛋白通过结合IPT5a、IPT5b和LOG1b启动子的GTAC基序,直接激活其转录。双荧光素酶和凝胶迁移实验(EMSA)证实了SPL16/23对CK合成基因的调控作用(图6)。在spl16/23突变体中引入IPT5b或LOG1b可完全恢复形成层缺陷,证明二者位于SPL16/23下游。

5. PIF3s通过miR156间接调控形成层

不同于经典遮荫回避反应,杨树PIF3.1/3.2通过抑制MIR156表达维持SPL16/23活性,间接促进形成层活动。pif3突变体在遮荫下形成层抑制加剧(细胞减少29%),且miR156水平异常升高。

结论与意义

该研究首次阐明miR156-SPL16/23-IPT5/LOG1-CK信号级联通路在遮荫抑制木材形成中的核心作用(图7):低R/FR通过提升miR156水平,抑制SPL16/23表达,进而降低CK合成基因活性,最终阻碍形成层增殖。这一发现不仅揭示了树木协调高度生长与径向生长的分子策略,更提供了关键育种靶标——操纵SPL16/23表达或CK合成可培育耐荫高产林种。研究还颠覆了草本植物中"遮荫抑制miR156"的认知,凸显木本植物光信号应答的特殊性,为理解多年生植物环境适应性开辟了新视角。

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