在微观的电子世界里,两个相互靠近却又彼此绝缘的导体之间,存在着一种奇妙的现象:当给其中一个导体通入电流时,另一个导体竟然会产生电压,这就是库仑拖拽(Coulomb drag)效应。以往,科学家们对这种效应的研究主要集中在非磁性材料上,然而,磁性材料中复杂的磁结构和磁转变,是否会给库仑拖拽带来新的变化呢?这成为了悬而未决的问题。为了探索其中的奥秘,北京大学的研究人员展开了深入研究。他们以 V 掺杂的(Bi,Sb)2?Te3?薄膜制成的陈绝缘体(Chern insulator)为研究对象,这种材料在低温下具有铁磁性,还能展现出量子反常霍尔效应(QAH) 。研究人员精心构建了介观器件,用于探究库仑拖拽现象。最终,他们发现了令人惊喜的结果:在两个陈绝缘体之间,存在着非互易的库仑拖拽现象,并且这种现象与磁涨落紧密相连。该研究成果发表在《Nature Communications》上,为库仑拖拽的研究开辟了新的方向。
研究人员采用了多种关键技术方法。在材料制备方面,运用分子束外延技术在半绝缘 GaAs (111) B 衬底上外延生长 V 掺杂的(Bi,Sb)2?Te3?薄膜。器件制作则结合标准光刻和反应离子刻蚀技术,将薄膜加工成 H 型结构,并通过电子束光刻和反应离子刻蚀形成空气间隙。测量时,把器件放入低温恒温器,施加垂直于器件表面的磁场,利用低频交流电流锁定技术提高信噪比 。
下面来详细看看研究结果。
陈绝缘体的库仑拖拽现象:实验在分裂 H 型结构器件上进行,两个陈绝缘体被空气间隙隔开。当向驱动电路通入电流,并扫描外部垂直磁场B2?时,研究人员发现,在陈绝缘体的磁化反转过程中(约 ±(0.8 - 1.3) T),拖拽电路中出现了有限的拖拽电阻Rdrag?(定义为Rdrag?=?Vdrag∥?/Idrive? ),而当陈绝缘体处于单畴状态时,拖拽电阻消失。这表明库仑拖拽信号与陈绝缘体的磁状态密切相关。