菌株已对这些杀菌剂产生抗性。因此,ASR 的防治不能仅依赖杀菌剂,应采用综合合理的方式,其中种植抗性品种是对抗 ASR 最有效的策略。抗性可由显性或主隐性基因(垂直抗性)表达,但这种抗性可能不持久,因为基因对某些菌株存在局限性。所以,大豆育种计划致力于培育由微效基因表达的部分(水平)抗性植株,以延长品种寿命。这些基因通过调节生化途径、抵御生物胁迫的机制,以及构建植物防御的结构屏障发挥作用。
本研究旨在温室条件下,评估感染P. pachyrhizi的大豆植株中,过氧化物酶(POX)、苯丙氨酸解氨酶(PAL)的活性,水平屏障(表皮蜡质和细胞壁厚度)的形成,以及光合参数的变化。研究测试了 6 个对 ASR 具有部分抗性的基因型和 1 个商业品种(Desafio RR 8473 RSF,易感品种)。利用扫描电子显微镜(SEM)对小叶的正面和背面表皮蜡质层进行结构分析,以确定其在形成对抗 ASR 物理屏障中的作用。