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高压电解槽中实现安培级电流密度NO电催化还原合成NH3的突破性研究
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年02月02日 来源:Nature Communications
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研究人员针对工业级NH3合成效率低和NO污染物处理难题,开发了分级多孔Cu纳米线阵列整体电极结合高压电解系统,实现了NORR(一氧化氮还原反应)安培级电流密度(1007 mA cm-2)和96.1%法拉第效率(FE),NH3产率提升10倍至10.5 mmol h-1 cm-2,稳定性超过100小时,为绿色氨合成和废气处理提供新范式。
氨(NH3)作为现代社会中最重要的基础化学品之一,广泛应用于肥料和几乎所有含氮化学品的制造。目前全球NH3年产量高达1.8亿吨,主要通过哈伯-博世法(Haber-Bosch process)生产,该工艺需要在高温(约500°C)和高压(>100 atm)的苛刻条件下进行,消耗全球1-2%的能源并产生大量CO2排放。电化学氨合成利用绿色可再生能源电力在温和条件下进行,被视为替代哈伯-博世法的有前景的路线。其中,电催化一氧化氮还原反应(NORR)不仅为可持续NH3合成提供了迷人途径,还为NO污染物的去除提供了有效方法。全球每年排放数千万吨废气NO,其中在己二酸和硝酸合成过程中产生的NO污染物浓度约为10%至20%。此外,NO作为可行的N2-NOx-NH3反应过程中的关键中间体,可通过非热等离子体工艺以高纯度和大量获得。
然而,实现满足工业应用需求的高NH3生产速率和长持续时间仍是一个巨大挑战。铜(Cu)因其适中的反应性被筛选为NORR生成NH3的最佳过渡金属催化剂。然而,Cu颗粒有限的活性位点、NO在水中的低溶解度(约1.92 mM)以及不良的析氢反应(HER)极大地阻碍了NH3的生产,导致电流密度不足和法拉第效率远低于工业应用需求。
为解决这些问题,中国科学院的研究人员开发了一种原位形成的分级多孔Cu纳米线阵列(Cu NWA)整体电极,结合高压电解槽,显著提升了NORR生成NH3的活性和效率。该电极在5 atm NO条件下实现了工业级NH3部分电流密度(1007 mA cm-2)和96.1%的法拉第效率(FE)。在10 atm NO条件下,NH3产率高达10.5 mmol h-1 cm-2,是商用Cu泡沫在1 atm条件下的10倍以上。此外,该系统在1000 mA cm-2电流密度下连续运行100小时,表现出优异的稳定性,NH3产率和FE几乎无衰减。
研究团队通过化学蚀刻和电化学还原方法制备了Cu NWA整体电极,结合高压电解系统,显著提升了NORR的反应动力学和热力学性能。Cu NWA电极具有三级分布的孔隙结构,包括骨架的微米级孔隙、堆叠阵列的大孔和纳米线的介孔。这种结构不仅最大化暴露了Cu活性位点,还改善了NO的内部传质。高压条件则增强了NO的外部传质和表面覆盖度,从而促进了NO的吸附和催化转化。
原位光谱和理论研究表明,Cu NWA电极的高NORR性能归因于其丰富的Cu活性位点和高压条件下NO覆盖度的增加。高NO覆盖度可削弱Cu-NO*相互作用和氢吸附,从而促进NO加氢生成NH3,同时抑制竞争性HER。此外,同位素标记实验证实NH3完全来源于NORR,未检测到含氮污染物的干扰。
这项研究通过Cu NWA整体电极和高压电解系统的协同作用,实现了NORR生成NH3的工业级电流密度和高法拉第效率,为绿色氨合成和废气处理提供了新思路。其重要意义在于:
该成果发表在《Nature Communications》上,为电化学合成高附加值化学品和环境污染治理开辟了新途径。
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