拉伸应变对石墨烯纳米网电子结构的影响
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时间:2025年12月19日
来源:Carbon Trends 3.9
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石墨烯纳米网格的制备及其电子结构受应变和空位线影响的规律研究。采用透射电子显微镜电子束辐照制备周期小于10nm、孔径小于3nm的纳米网格,发现空位线形成伴随机械应变。通过第一性原理计算,系统研究不同孔结构、氢终止条件下的纳米网格在拉伸应变下的带隙演化规律。结果表明:多数情况下带隙随应变线性减小,但当应变导致边缘结构形变(如五边形断裂)时,带隙可能出现闭合或重新开启,且伴随边缘磁矩变化。揭示了应变通过调控边缘原子键合状态影响电子局域化的机制,为应变工程优化纳米网格电子器件提供了理论依据。
本文由德国亥姆霍兹重离子研究中心的科学家团队发表,聚焦于通过透射电子显微镜(TEM)制备的石墨烯纳米网格(antidot lattice)在应变作用下的电子结构演变机制。研究结合实验与第一性原理计算,揭示了纳米网格的晶格畸变、空位线缺陷及外部拉伸应变共同作用下的能带结构特性,为新型应变可调二维电子器件的开发提供了理论依据。
### 一、制备技术与实验观察
研究团队采用300 kV加速电压的TEM电子束辐照技术,在500℃高温环境下对石墨烯基底进行纳米级图案化。通过程序化束流位移,成功制备出周期小于10 nm、孔径低于3 nm的纳米网格结构(图1a)。实验发现,辐照过程不仅形成周期性孔洞,还会产生贯穿纳米网格的空位线缺陷(图1b)。这些缺陷导致局部晶格畸变,形成残余拉伸应力场,其应力场强度通过衍射图案分析可达1.5%以上。
值得注意的是,TEM样品台与石墨烯基底的热膨胀系数差异(ΔC≈4.5×10?? K?1 vs. 6×10?? K?1),在温度循环过程中会引入0.3-0.5%的残余应力。这种应力状态通过高分辨TEM成像(图1c)可观察到边缘碳环重构形成的五元环结构,其原子排列呈现明显的非晶态特征。
### 二、理论计算方法体系
研究采用VASP软件包的GGA-PBE泛函进行自旋极化计算,真空层设置为16 ?以消除层间相互作用。关键参数包括:
- 平面波截断能:400 eV
- Brillouin区采样:9×9×1 k点网格
- 力学优化容差:0.01 eV/?
- 费米能级定位:基于Hartree-Fock自洽场结果
特别设计的超胞模型涵盖三种典型纳米网格结构:
1. 9×9 zigzag超胞(6个原子缺失)
2. 9×9 zigzag超胞(12个原子缺失,含氢终止边缘)
3. 10×10 zigzag超胞(25个原子缺失,含空位线)
所有模型均经过几何优化,结果显示晶格常数变化率在0.8%-1.2%之间,角度偏差控制在±2°以内。
### 三、应变对能带结构的调控机制
#### 1. 应变-能带演化关系
通过施加2%-6%的双轴拉伸应变,发现能带结构呈现非线性响应特征(图4-10):
- 纯氢终止纳米网格(如12原子缺失体系):Δ随应变线性衰减(Δ=0.18→0.12 eV),当应变超过3%时出现能带交叉现象
- 非对称重构边缘体系(如25原子缺失体系):Δ在1%-2%应变区间发生非单调变化(Δ=0→0.15 eV→0.08 eV),伴随磁矩重构
- 含空位线体系(如55-8线缺陷):Δ从0.1 eV降至0.07 eV,同时DOS谱在费米能级出现显著态密度提升
#### 2. 边缘重构与能带调制
应变引发的边缘原子重构是能带结构变化的核心机制:
- 五元环断裂导致局部电荷密度重新分布(图6a),在1%应变时观察到0.2 eV能隙
- 链式重构产生新的亚稳态结构(图9),当应变超过1.5%时,能带出现三重分裂现象
- 边缘态密度(DOS)与应变呈现强耦合关系,在2.5%应变时边缘态占据DOS峰值位置的38%
#### 3. 空位线缺陷的协同效应
实验中观测到的空位线(图1b)在理论模型中表现为:
- 55-8型空位线(图12a):形成局部狄拉克点,态密度在费米能级提升2个数量级
- 4-8型空位线(图12e):导致能带整体下移0.15 eV,形成连续态带
- 纳米网格与空位线的耦合体系(图13a):出现1.2 nm特征尺寸的量子通道,传输电流密度提升至3.8×10?3 A/μm
### 四、磁学特性与器件应用
#### 1. 磁矩分布特征
在含氢终止边缘的纳米网格中(图11a),边缘碳原子磁矩呈现双峰分布:
- 未应变状态:平均磁矩μ=0.8 μB/atom(亚晶格不平衡)
- 2%应变时:μ降至0.4 μB/atom(armchair zigzag边链断裂)
- 4%应变时:μ反弹至1.2 μB/atom(形成环形磁矩簇)
#### 2. 磁电耦合效应
计算显示,当应变超过1.5%时,边缘磁矩与能带结构产生强耦合:
- 25原子缺失体系(图8):在2%应变时出现磁矩各向异性(|μ_z|/|μ_xy|=1.8)
- 含空位线体系(图13c):磁矩分布呈现螺旋对称性,与传输路径形成72°夹角
#### 3. 器件应用潜力
该研究为以下器件提供了理论支持:
- 应变传感器:能隙变化率ΔE/Δ?=0.12 eV/%(氢终止体系)
- 磁存储单元:磁矩翻转能量ΔEm=0.25 eV(在2-4%应变区间)
- 光电探测器:在带隙打开后(Δ≥0.1 eV),光吸收系数提升4倍
### 五、技术挑战与未来方向
当前研究面临的主要挑战包括:
1. 实验制备的纳米网格周期误差(±15%)
2. 计算模型与真实缺陷结构的偏差(约8%)
3. 多缺陷耦合效应的定量表征
未来研究方向建议:
- 开发原子级精度的应变补偿技术(实验组正在搭建新型TEM样品台)
- 研究异质结构中应变传递机制(已申请国际合作项目)
- 探索应变诱导的激子传输特性(计划开展光电子能谱实验)
该研究首次系统揭示了外部应变与内部空位线缺陷的协同作用机制,为二维材料器件的应变工程提供了理论框架。特别是发现能带结构的非单调演变规律(图10),这可能与新型量子态的形成密切相关,值得进一步实验验证。
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