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基于HfAlOx的多功能铁电突触忆阻器,具有增强的巴甫洛夫式学习能力和物理存储计算系统
《Physical Chemistry Chemical Physics》:Multifunctional ferroelectric synaptic memristors based on HfAlOx with enhanced Pavlovian learning and physical reservoir computing systems
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年11月08日 来源:Physical Chemistry Chemical Physics 2.9
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铁电忆阻器在神经形态计算中的应用研究。采用W/HAO/ZrO2/nSi异质结结构,通过优化500℃退火时间(60秒)实现正交晶相占比最大化与极化特性优化。实验表明退火60秒的器件具有最佳隧道电电阻特性(记忆窗口0.85V)、突触可塑性(长时程增强0.92/衰减0.87)和Pavlovian学习效果。成功构建4位物理 reservoir系统,在MNIST图像识别中达到98.51%准确率,证实HAO铁电忆阻器作为低功耗突触器件的可行性。
随着对高效能、高速数据处理系统的需求不断增长,基于HfAlOx(HAO)的铁电忆阻器已成为神经形态计算领域极具前景的候选材料。在本研究中,我们制备了一种由W/HAO/ZrO2n+/Si组成的金属-铁电-绝缘体-半导体结构,并研究了在相对较低温度(500°C)下退火时间对铁电性能和突触特性的影响。掠入射X射线衍射及正负极性测量结果表明,60秒的退火处理能够最大化正交相的含量和极化特性。电学测试显示,经过60秒退火处理的器件具有更强的隧穿电阻和更宽的存储窗口;极化反转分析进一步证实了“死层厚度”与铁电性之间的权衡关系。该器件还表现出更优的读取裕度和突触行为,包括增强/抑制效应、基于脉冲的可塑性以及经典条件反射(Pavlovian)学习能力。最终,我们成功实现了一个4位存储计算系统,其在MNIST数据集上的识别准确率达到98.51%。这些结果凸显了基于HAO的铁电忆阻器作为未来神经形态硬件中低功耗突触元件的巨大潜力。
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