异质结构CeO2@g-C3N4光催化剂通过直接Z-Scheme机制增强Fenton光催化活性对艾里奥格劳辛（Erioglaucine）的降解效果，并考察其对RAW264.7和Hela细胞的细胞毒性

《Particle & Particle Systems Characterization》：Heterostructure CeO2@g-C3N4 Photocatalyst for Boosting Fenton-Photocatalytic Activity Against Erioglaucine via Direct Z-Scheme Mechanism and Its Cell Viability on RAW264.7 and Hela Cells

CeO2/g-C3N4复合材料通过热聚合法制备，用于Fenton-光催化降解厄里奥格雷因染料并测试细胞毒性。其降解效率达94%且符合伪一级动力学（k1=29.8×10^-3），pH和催化剂用量影响显著。活性氧物种（超氧自由基、羟基自由基、正空穴）主导降解过程，并有效抑制HeLa和RAW264.7细胞活性（48小时后存活率分别降至7.6%和93%）。

　　

摘要

本文报道了一种通过经济高效的热聚合工艺，简便地合成了表面修饰有CeO?的石墨碳氮化物（g-C?N?）纳米复合材料（CeO?@g-C?N?）。所制备的CeO?@g-C?N?被用于研究其对Erioglaucine（EG）染料的Fenton光催化降解作用，并进一步通过MTT还原实验对其对HeLa和RAW264.7细胞的细胞毒性进行了评估。采用多种技术对制备的CeO?@g-C?N?复合材料进行了结构、光学和形态学研究。在太阳光照射下，CeO?@g-C?N?对EG染料的降解效率约为94%，所需时间为85分钟。该降解反应遵循伪一级动力学，其反应速常数为k? = 29.8 × 10?3。此外还考察了催化剂用量和介质pH值等因素。通过添加捕获剂确定了参与降解反应的活性物质，结果表明超氧阴离子、羟基自由基和正空穴（h?）是EG染料降解的主要活性物种。催化剂表面产生的活性氧（ROS）也有效杀死了RAW264.7和HeLa细胞。处理48小时后，当CeO?@g-C?N?的浓度为3.125 μg/mL时，RAW264.7巨噬细胞的存活率降至7.6%；而当浓度为6.25 μg/mL时，HeLa细胞的存活率降低了93%。

利益冲突

作者声明不存在利益冲突。