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异质外延应变工程与界面能量传递增强C60/WS2范德瓦尔斯异质结构中的光电性能
《Advanced Materials》:Heteroepitaxial Strain Engineering and Interfacial Energy Transfer Boosting Optoelectronic Properties in C60/WS2 van der Waals Heterostructures
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年10月28日 来源:Advanced Materials 26.8
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范德华异质结构中C60分子与单层WS2的异质外延组装形成一维聚合物链,通过界面应变诱导和能量传递实现光致发光强度提升310%,并优化器件性能。电荷载流子迁移率达10.4 cm2/Vs,光电响应度46.4 A/W,检测度3.6×1012 Jones。
通过工程化设计范德华(vdW)异质结构,将分子半导体与原子级平坦的纳米材料结合在一起,可以在异质界面处灵活调控光电性能。本文报道了在单层二硫化钨(ML-WS2)上异质外延生长C60分子的过程:异质界面处C60晶格的各向异性压缩应变促使形成了一维聚合物C60链,并激活了原本受对称性限制的S1 → S0光学跃迁。这种效应与ML-WS2向C60的界面能量传递相结合,使得光致发光(PL)强度相比无序的C60聚集体提高了310%。由此制备的C60/ML-WS2晶体管表现出优异的电学和光电性能,载流子迁移率达到了10.4 cm2 V?1 s?1,这得益于与Au电极之间仅230 meV的极低接触势垒。这些器件具有高达46.4 A W?1的光响应度和3.6 × 1012 Jones的探测灵敏度,远超未经改性的ML-WS2器件。
作者声明不存在利益冲突。